本中心專業(yè)提供硅片清洗劑成分分析，性能檢測服務(wù)?？梢愿鶕?jù)樣品準(zhǔn)確分析出硅片清洗劑配方組成，指導(dǎo)客戶改進(jìn)配方，改善工藝，達(dá)到降低成本的目的。有需要的客戶可以致電本中心進(jìn)行咨詢。

   隨著硅片技術(shù)的發(fā)展，對硅片質(zhì)量的要求也越來越高，特別是對硅拋光片表面質(zhì)量的要求越來越嚴(yán)。這主要是因為拋光片表面的顆粒、金屬沾污、有機(jī)物沾污、自然氧化膜、微粗糙度等會嚴(yán)重影響器件的品質(zhì)和成品率。因此，硅片表面的清洗就成為了半導(dǎo)體材料及器件生產(chǎn)中至關(guān)重要的環(huán)節(jié)。

在清洗過程中，清洗液和硅片表面進(jìn)行復(fù)雜的物理和化學(xué)反應(yīng)(如螯合，絡(luò)合,皂化等)使硅表面的污物及重金屬雜質(zhì)去除干凈，同時對硅片在加工或工藝流程中造成的表面淺劃痕也被去除(不減少硅片的厚度)。

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