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蘇州豐碩清洗機分類：UV光清洗機、UV清洗機、紫外線光清洗機、UV光臭氧清洗機、涂裝清洗機設(shè)備

UV光清洗機的工作原理

UV光清洗技術(shù)是利用有機化合物的光敏氧化作用達到去除黏附在材料表面上的有機物質(zhì)，經(jīng)過光清洗后的材料表面可以達到“原子清潔度”。

更詳盡的講：UV光源發(fā)射波長為185nm和254nm的光波，具有很高的能量，當(dāng)這些光子作用到被清洗物體表面時，由于大多數(shù)碳氫化合物對185nm波長的紫外光具有較強的吸收能力，并在吸收185nm波長的紫外光的能量后分解成離子、游離態(tài)原子、受激分子和中子，這就是所謂的光敏作用。

空氣中的氧氣分子在吸收185nm波長的紫外光后也會產(chǎn)生臭氧和原子氧。臭氧在254nm波長的紫外光同樣具有強烈的吸收作用，臭氧又分為原子氧和氧氣。

其中原子氧是極活潑的，在它的作用下，物體表面的碳和碳氫化合物的分解物可揮發(fā)的氣體：二氧化碳和水蒸氣等逸出表面，從而徹底清除氣、黏附在物體表面上的碳和有機污染物。清洗時，使基板治濕性向上。

玻璃基板是以滾輪方式輸送，上方裝置低壓水銀燈產(chǎn)生紫外線照射。玻璃基板所累積外線能量愈多，其表面水接觸愈小，成反比關(guān)系。一般STN-LCD制作過程中，需求的玻璃基板累積紫外線能量為300nj/cm2(253.7nm)以上。

而色彩STN-LCD及彩色濾光片制作過程中，要求的玻璃基板累積紫外線能量為600nj/cm2(253.7nm)。

在TFT-LCD制作過程中，除了低壓水銀燈產(chǎn)生臭氧清洗玻璃外，目前制程的主流是，使用Excimerlamp，其172nm波長紫外線的高反映性質(zhì)對玻璃的清洗效率更好。

UV光清洗機適用產(chǎn)品范圍

（1）可在空氣中進行并且在清洗后不必進行干燥。

（2）可徹底清除物體表面的碳和有機污染物。

（3）無溶劑揮發(fā)及廢物溶劑的處理問題。

（4）保證產(chǎn)品的高可靠性和高成品率。

（5）產(chǎn)品表面清洗處理的均勻一致。

（6）由于光清洗時通過光敏、氧化反應(yīng)去除物體表面的碳和有機化合物，所以容易發(fā)生氧化的表面不宜用光清洗方法，只適對表面污垢清洗、不適對污垢量較多，無機類污垢清洗。

可采用UV光清洗的產(chǎn)品主要在液晶顯示器件、半導(dǎo)體硅晶片、集成電路、高精度印制電路板、光學(xué)器件、石英晶體、密封技術(shù)、帶氧化膜的金屬材料等產(chǎn)生過程中采用光清洗方法最為合適。

主要材料：ITO玻璃、光學(xué)玻璃、鉻板、掩膜板、拋光石英晶體、硅晶片和帶有氧化膜的金屬等進行精密清洗處理。可以去除污垢：有機性污垢、人體皮脂、化妝品油脂、樹脂添加劑及聚亞胺、石蠟、松香、潤滑油、殘余的光刻膠等。

UV光清洗技術(shù)在現(xiàn)代信息技術(shù)行業(yè)中使用光清洗技術(shù)比較普遍，隨著我國工業(yè)現(xiàn)代化的發(fā)展，光清洗和光改質(zhì)技術(shù)還將逐步應(yīng)用于金屬、塑料、橡膠等工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域。

聯(lián)系人：連經(jīng)理

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