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ETD-2000/3000 小型離子濺射儀

  • 這真不是您需要的產(chǎn)品？
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    • ETD-2000/3000型離子濺射儀是依據(jù)二極(DC)直流濺射原理設(shè)計(jì)而成的，最簡單、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜設(shè)備。適用于電鏡實(shí)驗(yàn)室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備，非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極制作。 常規(guī)Au /Pt 金靶 主要特點(diǎn)： 1. 配置有樣品濺射室真空表和濺射電流表，用以指示、監(jiān)控儀器狀態(tài)； 2. 濺射電流調(diào)整控制器、微型真空氣閥。在工作時(shí)結(jié)合內(nèi)部自動(dòng)控制電路很容易控制真空室壓強(qiáng)、電離電流及任意選擇所需要的電離氣體，獲得最佳鍍膜效果； 3. 特殊設(shè)計(jì)的鐘罩邊緣橡膠密封圈，可保證長期使用不會(huì)出現(xiàn)影響樣品濺射室真空度的玻璃鐘罩“崩邊”現(xiàn)象； 4. 陶瓷密封高壓頭比通常采用橡膠密封的更經(jīng)久耐用； 5. 根據(jù)電場中氣體電離特性，采用大容量樣品濺射真空室和相應(yīng)面積濺射靶，使濺射鍍層更均勻純凈。 配置參數(shù)： 靶（上部電極）：金：直徑：50mm，厚度：0.12mm 真空樣品室： 直徑：160mm，高：120mm 樣品臺(tái)及工作距離：高配旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)，簡配固定樣品臺(tái)，高度手動(dòng)調(diào)節(jié) 濺射面積： Ф50mm，最大放置 真空指示表： 最高真空度：≤ 4X10-2 mbar 離子電流表： 最大電流：50mA(100mA) 定時(shí)器： 最長時(shí)間：900S 微型真空氣閥： 可連接φ3mm軟管 可通入氣體： 多種 最高電壓： -1600（-3000）DCV 機(jī)械泵： 2L/S （120L/min） 樣品表面離子清潔（選配）
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