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反應(yīng)離子刻蝕機(jī)

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型號(hào)： RIE 2000反應(yīng)離子刻蝕機(jī) 產(chǎn)地：美國(guó) 反應(yīng)離子刻蝕機(jī) 關(guān)鍵機(jī)：反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)，反應(yīng)離子蝕刻機(jī)，RIE刻蝕機(jī)，反應(yīng)離子蝕刻系統(tǒng)，進(jìn)口反應(yīng)離子蝕刻機(jī) 品牌：MYCRO 環(huán)球供應(yīng)，本地服務(wù)！MYCRO專業(yè)為您提供實(shí)驗(yàn)室RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)設(shè)備，全方位的技術(shù)服務(wù)及售后，MYCRO值得您的的信賴！ RIE 2000 反應(yīng)離子刻蝕機(jī)是專門(mén)為微電子器件的各向異性刻蝕設(shè)計(jì)的。這款緊湊型的研究級(jí)設(shè)備可以用于工藝開(kāi)發(fā)和小批量生產(chǎn)，從而可以模擬大型生產(chǎn)設(shè)備的操作。 RIE 2000是一套分子渦輪真空泵系統(tǒng)，可以達(dá)到底限壓力10-6 torr。這樣的低基準(zhǔn)壓力使得刻蝕前腔體內(nèi)的殘留物被消除，從而提供了一個(gè)潔凈的蝕刻環(huán)境，使高度的異向性刻蝕成為可能。其200毫米直徑的真空倉(cāng)可以容納最大6英寸直徑及相應(yīng)尺寸不規(guī)則基片的蝕刻。RIE 2000配套的全手動(dòng)控制系統(tǒng)及數(shù)字顯示讀取，使設(shè)備可以進(jìn)行更廣泛的蝕刻實(shí)驗(yàn)參數(shù)設(shè)定，并不受限于常規(guī)自動(dòng)化的處理范圍。。技術(shù)規(guī)格: 真空泵: 70 1/sec 渦輪分子泵氣體輸入: 雙通道，全不銹鋼構(gòu)造，配備整體式氣體噴頭。系統(tǒng)排氣/泄壓裝置:獨(dú)立式連鎖電磁閥，配有干燥氮?dú)膺B接。射頻電源: User variable 0-200 watt; 13.56 MHz frequency, 手動(dòng)調(diào)節(jié);風(fēng)冷; 固態(tài)設(shè)計(jì). 工藝時(shí)間控制: 蝕刻自動(dòng)終止，最長(zhǎng)時(shí)間為99:99:59 輸入電源: 115/230 VA, 50/60 Hz, 10/5 amps. 系統(tǒng)尺寸: 20.25" W x 16" D x 15" H 真空處理艙尺寸: quartz, 8" OD x 4" high. 選配件:不銹鋼艙,觀測(cè)窗;質(zhì)量流量控制系統(tǒng),最多配四路氣體通道;冷陰極真空計(jì) 需要更詳細(xì)的Reactive Ion Etcher反應(yīng)離子刻蝕機(jī)產(chǎn)品資料，請(qǐng)與邁可諾技術(shù)有限公司中國(guó)營(yíng)銷(xiāo)服務(wù)中心區(qū)域辦公室聯(lián)系! 010-52914751 / 400-6800-397轉(zhuǎn)813（北京） 021-33197367 / 400-6800-397轉(zhuǎn)823（上海） 020-85583301 / 400-6800-397轉(zhuǎn)833（廣州） 027-87163162 / 400-6800-397轉(zhuǎn)843（武漢） Email: sales@mycro.com.cn website: http://www.mycro.com.cn 客服熱線：400-8800-298

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